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2026-06-30 00:34 / 探索 / 休闲 / 焦点 /

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  • 随着半导体制程向先进节点演进,3D 晶体管架构与多层互连堆叠技术的规模化应用,使得器件缺陷的隐蔽性与检测难度显著提升。传统光学检测技术已难以满足电学相关缺陷的识别需求,而电子束检测的效率瓶颈又制约了量产应用。DirectScan检测通过核心技术创新破解了这一行业痛点,为下一代半导体制造提供了高效、精准的检测解决方案。


    本文将从技术原理、核心优势、应用场景及落地实践等方面,对该技术进行系统性解析。


    一、先进工艺节点的检测挑战与技术缺口


    当前半导体制造技术正经历关键变革:鳍式场效应晶体管逐步被全环绕栅极(GAA)纳米带晶体管替代,中段制程(MOL)因多重图形化技术的应用,堆叠复杂度持续增加。这一变革导致致命缺陷多隐匿于 3D 结构内部,传统光学检测手段难以有效识别。


    同时,先进工艺节点的缺陷呈现显著的产品特异性,集中分布于特定工艺 - 版图组合的 “热点区域”,此类缺陷由芯片设计固有的版图特征引发,成为影响良率的核心因素。


    行业面临的核心矛盾在于:电子束电压衬度检测是识别电学缺陷的关键技术,但传统电子束检测采用光栅扫描模式,效率远低于光学检测,无法匹配大批量生产的需求。DirectScan 技术的出现,为破解这一矛盾提供了可行路径。


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    二、DirectScan 核心技术架构:PointScan 的创新逻辑


    DirectScan 检测方案由eProbe 电子束检测工具、FIRE GDS 版图分析平台及Exensio 大数据智能分析平台三大核心组件构成,其技术突破的核心在于PointScan 扫描技术对传统电子束检测逻辑的重构,主要体现在以下三方面:


    1

    设计感知驱动的靶向检测

    传统电子束检测采用无差别光栅扫描,需覆盖包括介质区域在内的全部区域,且无法识别被测目标的图形特征;PointScan 技术具备非接触式电学测试特性,可精准跳转至目标器件的关键位置(如焊盘、接触点),仅对有效检测区域实施电压衬度检测,完全规避介质区域的无效扫描,实现 “按需检测”。

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    2

    检测效率的量级提升

    通过 FIRE 平台的精细化版图分析,可精准筛选出需检测的 “关键区域”,大幅缩减检测范围:

    后段制程金属 3 层通孔检测:仅需扫描总可检测面积的 2.5%

    中段制程栅极 - 漏极短路检测:仅需扫描总接触点的 1%

    栅极残筋检测:可规避 50%-75% 的介质区域,检测面积缩减至传统方案的 10% 以下


    基于上述优化,PointScan 技术的检测吞吐量可达传统单束电子束检测设备的 20-100 倍,每小时可完成数十亿个被测器件的扫描。


    3

    设计感知学习与属性分析能力

    DirectScan 与 FIRE 平台的深度整合,可实现跨多层版图的属性提取,包括触点类型(漏极 / 栅极)、晶体管阈值电压、极性、与扩散区隔离槽的距离等关键参数。


    eProbe 输出的 KLARF格式数据含专属属性识别码,可与版图特征精准匹配,工程师可直接计算特定属性或属性组合对应的缺陷率,快速定位高风险晶体管类型与版图设计方案,为工艺优化提供数据支撑。


    三、高难度场景的应用突破


    PointScan 技术的低电荷沉积特性,使其在传统电子束检测难以覆盖的场景中实现突破:


    背侧供电网络(BSPDN)晶圆检测


    键合晶圆形成的绝缘层会阻碍电荷传导,导致传统电子束检测出现电荷累积、电子束偏折与失焦问题;PointScan 技术大幅降低单位面积电荷沉积量,有效缓解上述问题,已完成实际应用验证。


    3D DRAM检测


    3D DRAM 的结构特性同样易引发电荷累积,此前检测难度较高,DirectScan 技术的应用使该类器件的精准检测成为可能。


    DRAM 阵列短路检测


    独有的可控 “充电 - 检测” 功能,可在指定位置施加电荷后跳转至目标区域采集电压衬度信号,使特定岛状节点呈现高亮状态,清晰识别与浮空相邻触点的短路问题,该功能为传统光栅扫描技术所不具备。


    四、行业落地实践与全流程应用


    自 2022 年初起,eProbe 检测系统已在多家先进逻辑芯片制造工厂落地,目前两套设备投入大批量生产,第三套设备处于产能爬坡阶段,应用场景覆盖半导体制造全流程:


    先进逻辑芯片制造


    中段制程:GAA 栅极 - 漏极短路、栅极接触孔开路、栅极外延层 / 硅化物层开路检测

    后段制程:M0 层、1X 层、2X 层系统性接触孔开路与金属布线短路检测

    背侧供电网络:电源通孔、源极 / 漏极通孔接触孔开路与短路检测

    随机逻辑电路漏电情况评估


    先进 DRAM 制造(2024-2025 年)


    外围电路:栅极 - 栅极残筋短路、栅极 - 漏极短路、字线 - 字线短路与开路检测及缺陷定位

    存储阵列:基于可控 “充电 - 检测” 技术的存储节点短路检测


    技术总结


    在半导体制程向更精密 3D 架构演进的背景下,检测技术的创新成为保障良率的关键。DirectScan 方案通过 PointScan 靶向扫描技术、设计感知分析能力与产品特异性缺陷学习功能的融合,在保留电子束检测高灵敏度的基础上,实现了检测吞吐量的量级提升,同时破解了高难度场景的检测难题。


    该技术不仅解决了先进工艺节点下缺陷“难识别、难检测” 的问题,更推动半导体检测从 “缺陷识别” 向 “工艺优化赋能” 升级,为下一代半导体制造提供了核心技术支撑和全新路径。

    " alt="DirectScan 技术解析:下一代半导体电子束检测的创新路径与应用">
  • 仙靈棋謎
  • 邁萊維
  • 雷公连属
  • 全链条保障攻克技术难关

    面对大型800t/d熔窑调整的难题,项目推进获得了多重组织保障。耀华集团派出工艺技术专业团队驻厂指导,深入一线参与工艺评审并提出关键建议;公司管理层全程跟进,建立“日调度、周总结” 机制,领导多次亲临现场督导,协调资源、打通堵点,及时解决人员调配、物料供应、能源保障等问题。

    与时间赛跑、与细节较真。改色关键阶段,生产团队开启“自愿驻厂、日夜坚守” 模式,熔联中控室内,技术人员紧盯熔窑温度曲线,严格执行制定的工艺参数制度,确保大吨位熔窑生产颜色玻璃的熔化质量;设备维护团队化身 “产线医生”,手持红外测温仪与振动检测仪,在机组间穿梭,对传动辊道、风机系统、电加热元件进行动态巡检,消除潜在隐患。

    此次金茶玻璃的成功下线,不仅是一次成功的颜色切换,更是对晶华玻璃整个生产体系综合能力的一次全面检验。以此为起点,晶华玻璃将继续围绕高端玻璃制造方向,持续优化工艺与设备,推动产品结构升级。

     

    " alt="攻坚克难!晶华玻璃大吨位熔窑生产金茶玻璃成功下线,企业新闻">
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